中国电子展“助力‘中国创造’的高性能测试仪器”

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3D-Co（16.4％）MoS2/G具有143 mV的过电位，力中可实现10 mAcm-2的电流密度，并保持了超过5000次CV扫描的稳定性。国创高性所有HER极化曲线没IR校正。

【图文导读】图1 三维分层MoS2/G和Co-MoS2/G的形貌和原子结构（a-c）3D-MoS2/G样品的（a）TEM图，试仪（b）有EDS元素分布的HAADF-STEM图和（c）原子分辨率HAADF-STEM图。中国展助造这项工作为提高催化剂的活性和稳定性提供了一种很有前途的策略。力中相关成果以题为Three-dimensionallyhierarchicalMoS2/graphenearchitectureforhigh-performancehydrogenevolutionreaction发表在了NanoEnergy上。

MoS2层与高导电性石墨烯骨架均匀连接，国创高性良好地分散在通道内，暴露出丰富的边缘位点，极大地改善了HER活性。二硫化钼（MoS2）作为一种典型的2D过渡金属二硫化物，试仪由于其在边缘位点具有高内在活性，被广泛认为是一种有前途的非贵金属催化剂。

石墨烯的引入不仅提高了MoS2的电子导电性，中国展助造而且有利于MoS2的分散和更多边缘活性位点的暴露。

图2 三维Co-MoS2/G的电子和配位结构（a，力中c）分别为一系列样品的Mo和CoK边的归一化XANES光谱。比如是否会购买其产品，国创高性对其进行投资，以及求职意向。

根据整理后的数据，试仪每家企业都将按照总分100分进行打分。企业声望管理研究及咨询公司声望研究院(ReputationInstitute，中国展助造RI)发布2019全球企业声望100强排行榜(2019'sMostReputableCompaniesWorldwide)在全球消费者当中具有最佳声望的企业。

力中排名基于声望研究所2019年前两个月对23万名受访者进行的问卷调查。排在前十位的还有：国创高性迪士尼、阿迪达斯、微软、索尼、佳能、米其林、奈飞和博世。